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日本電子JEOL場發(fā)射透射電鏡F200是日本電子新一代多用途場發(fā)射透射電子顯微鏡，可以很好滿足當今用戶的多樣化需求。F2在保證高性能和滿足多樣化需求的同時采用了以用戶為取向的一體化操作設計。

日本電子JEOL肖特基場發(fā)射掃描電鏡IT800 半浸沒式物鏡是指在通常物鏡的下部還有一個由泄露磁場形成的強磁場透鏡。JEOL的半浸沒式物鏡能夠提高電子束的聚焦能力，實現(xiàn)超高分辨率。而且還能夠更高效地收集那些從樣品激發(fā)出來的低能量二次電子，提高UID檢測器的檢測效率。

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列無論是切割、成像或進行 3D 分析，Crossbeam 系列都能極大地提升您的應用體驗。使用 Gemini 電子光學系統(tǒng)，您可以從掃描電子顯微鏡（SEM）圖像中獲取真實的樣品信息。Ion-sculptor FIB 鏡筒引入了全新的 FIB 加工方法，能夠減少樣品損傷，提升樣品質(zhì)量，從而加快實驗進程。

蔡司ZEISS場發(fā)射掃描電鏡Sigma系列產(chǎn)品將場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)與良好的用戶體驗緊密地結(jié)合在一起。利用 Sigma 直觀的 4 步工作流程，可輕松實現(xiàn)構(gòu)建成像和分析程序，提高工作效率。您可以在更短的時間內(nèi)采集到更多數(shù)據(jù)。Sigma 可以搭載多種探測器，以滿足不同應用需求：顆粒物、表面結(jié)構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層及多層膜等樣品成像。

蔡司ZEISS 場發(fā)射掃描電鏡Gemini系列 這一名字代表著可以輕松實現(xiàn)亞納米級別高分辨率的成像技術(shù)，足以滿足您在面對高要求的材料和生命科學項目時的成像要求。將高檢測效率與出色的分析性能相結(jié)合，使用非浸沒式物鏡技術(shù)即可實現(xiàn) 1kV 以下的亞納米分辨率。三款special設計的 Gemini 電子光學鏡筒以及一個大型靈活的新型樣品室可以滿足您所有的成像和分析需求。

高速攝像機FASTCAM MINI-UX產(chǎn)品簡介1280×1024像素4,000fps；拍攝速度200,000fps；1.5KG的輕化小型設計產(chǎn)品用途Photron高速相機的新成員“FASTCAM Mini”系列。拍攝速度、感光性能、重量、尺寸等指標均衡考慮的設計理念。作為“剛剛好”的高速相機廣泛適用于研究開發(fā)、生產(chǎn)技術(shù)、機械工程等領(lǐng)域。